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近红外激光照射人体合谷穴与非穴位区的温度和背向散射光强度的时间相关性比较研究
合谷穴 非穴位 红外热成像 光相干层析成像 半导体激光 照射
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2012/8/31
研究了人体合谷穴以及周边的非穴位组织受不同功率的半导体激光(808 nm功率分别为15,25,35 mW)照射前后,穴位和非穴位组织的温度和在不同深度处的背向散射光强度的时间相关性及其差异。实验采用红外热成像和光相干层析成像技术获取人体穴位区和非穴位区的温度及其背向散射光强度。结果表明,在808 nm激光照射前,穴位区和非穴位区的温度和背向散射光强是基本相同,照射后,穴位区的温度和背向散射光强明显...