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Ni掺杂ZnO薄膜的荧光特性 ZnO薄膜掺杂效应荧光特性 font style='font-size:12px;'> 2009/10/26

采用脉冲激光沉积技术(PLD)在单晶Si 衬底上制备了Ni掺杂的ZnO薄膜，通过VARAIN Cary-Eclips 500型荧光光谱仪研究了样品的荧光特性。观察到360和380 nm左右2个荧光峰。通过Ni掺杂，研究了360 nm左右荧光峰的起源。结果表明，随着靶材中Ni掺杂量的不同，荧光峰峰位不变，而相应的发光强度发生了明显的变化。当靶材中Ni∶ZnO的摩尔比Xs为5％时，样品中360 nm紫...